Die perfekte Lösung für die Aktivierung der Implantatoberfläche
Plasma X Motion ist eine neuartige Vakuum Plasmatechnologie zur regenerativen Aktivierung der Implantatoberfläche.
Kohlenwasserstoffverunreinigungen werden durch das Vakuum Plasma von der Oberfläche der Implantate entfernt. Es entsteht dadurch eine Oberfläche, die das Blut „ansaugt“ (Hydrophilie) und eine bessere Osseointegration/ Einheilung auslöst. Das Verfahren erhöht nachweislich die Anhaftung, Proliferation und Differenzierung von Osteoblasten sowie die Adsorption von Proteinen.
Es verbessert dadurch die Einheilung des Implantates.
Plasma X Motion wird unterstützt durch die Clean Implant Foundation.
Ein Video dazu
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